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  通常用于表面改性或涂层。

  包括真空蒸发、离子溅射、离子镀等。

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  离子溅射镀膜技术:

  离子溅射镀膜技术是在真空室中用带电粒子轰击靶材表面,通过粒子的动量转移产生靶材中的原子和其他粒子,然后沉积在基底上形成薄膜的技术。

  粒子溅射镀膜可以实现大面积快速沉积,镀膜密度高,附着力好。

  管事重要,护身重要,离情重要,修细重要,导严重要。

  应用:

  溅射镀膜材料不受限制,任何可以制成靶材的材料都可以溅射成膜,广泛应用于机械、电子、化学、光学、塑料等行业。

  离子溅射MoS2在轴承中的应用,解决了轴承的润滑问题,实现了固体自润滑。

  化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)是一种化学气相生长方法,它是将含有构成薄膜的元素的一种或多种化合物和元素气体供给到基底上,通过气相作用或化学反应在基底表面生成所需的薄膜。

  涂层:TiC、tin、Ti(CN)、Al2O3、ZrO2、TiO2金刚石或类金刚石碳等。

  很容易对各种政治和社会部分的情况要求严格。

   CVD技术可用于陶瓷钢球或滚子,在金属钢球或滚子表面形成陶瓷层,以提高滚动体的耐磨性、耐温性、润滑性和耐腐蚀性。例如飞机舱门的轴承滚珠。

  物理气相沉积(PVD)技术

  物理气相沉积(PVD)是一种利用热蒸发、离子溅射或辉光放电等物理过程在基材表面沉积所需涂层的技术。

  物理气相沉积可以镀金属、合金、氧化物、氮化物、碳化物等薄膜;该膜附着力强,加工温度低,一般不变形或变形很小。

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